SOURCE
 
 XRS 100 Al/Mg アノードX線源




● Mg 300W
● Al 600W
● アライメント調整 ポートアライナー
 デザイン:  Mg/Al ツインアノード (他金属はリクエスト)
パワー:  それぞれ300 W (Mg)、600W (Al)
クロストーク:   0.4%以下
マウンティングフランジ:   ICF70 (DN 40 CF)
ベークアウト:   250℃まで
水冷却:   アノードとアノードハウジング、3.5 l/min.
 


FS 100  Flood source


● 陽電荷チャージ
   サンプル中和用Flood source XPS, SIMS等
● 2つのエネルギーレンジ(10eV、500eV)
● PCによるエネルギー制御可能 
運動エネルギー範囲:  0 - 500eV 
サンプル上のビーム電流測定:
(基底 25 × 25mm2
 0.1μA (at 0.1eV)、 24μA (at 1eV)
130μA (at 10eV)、 1500μA(at 500eV)
 ビーム直径(FWHM):  11mm at 500eV
 ベークアウト:  250℃まで
 マウンティングフランジ:  ICF70 (DN 40 CF)
 挿入長:  146mm
 作動距離:  40mm
 

 
IS 100 イオンソース 


● STM探針クリーニングやサンプル対応
   エキストラクタータイプイオンソース
● ダイレクトガスインレットへ10-6 - 10-5mbrの
   チャンバー圧で動作
● アルゴンの他、活性ガスによるスパッタリング
   も可能
● 5keVまでのイオンエネルギー
● 長さのカスタマイズ可能
 デザイン:  抽出型イオンソース
主要エネルギー範囲:   0.2 - 5keV
総電流:   15 - 20μA
使用圧:   10-5 - 10-6mbr
スポットサイズ(FWHM):   >4mm (50mm作動距離と5kV以下で)
マウンティングフランジ:   ICF70 (DN 35 CF)
挿入長:   任意
 作動距離:  任意
ベークアウト温度:   250℃まで
 

 
IS 200 ラスター型イオンソース 


● エキストラクターと差動排気型イオンソースで
  あり STM探針クリーニングやサンプル及び
  デプスプロファイルに使用
● 差動排気取付により、チャンバー圧10-8mbar
   まで対応
● アルゴンの他、活性ガスによるスパッタリング
   も可能
デザイン:  ラスター・フォーカス型イオンソースとXY-偏向ユニット 
主要エネルギー範囲:   0.2 - 3keV
総電流(FWHM -0.5mm)   15μA
動作圧:   最小10-8mbar
 スポットサイズ(FWHM):  >500μm(30 mm作動距離で)
マウンティングフランジ:   ICF70 (DN 35 CF)
 挿入長:  任意
 作動距離:  任意
 ベークアウト温度:  250℃まで
 

 
 ES 100 低エネルギー電子源
 

● エネルギー範囲:5 - 200eV
● BaOフィラメント
● 低エネルギー分散(<280meV)
● ≤ 15μA エミッション
● スモールフォーカス
● XY-偏向
● 安定したアウトプット
● CF40取り付けフランジ

 
ES 200 低エネルギー電子源 



● エネルギー範囲:0 - 200eV
● BaOフィラメント
● 低エネルギー分散(<280meV)
● ≤ 20μA エミッション
● スモールフォーカス
● XY-偏向
● 安定したアウトプット
● CF40取り付けフランジ 

 
UVS 200 紫外光電子分光用UV光源


● 紫外光電子分光(UPS)において最適
● 高性能、高光量子束
● 安定性に優れた放電操作
● HeⅠ/ HeⅡ制御可能
● 差動排気システム
● 簡単操作/点火
● ビーム広がり角 <±1°

● 使用ガスは通常Heだが、ネオンやアルゴンも 可能
 
 光量子束 > 8 ×1015Photons sr-1s-1 
フォトカレント  > 50nA
 ビーム広がり角  < ±1°
 ビームアライメント  ビーム位置調整に有用なポートアライナー
 動作ガス  He、Ar、Ne、Xe
 差動排気  2段差動排気
 ベークアウト温度  250℃
 取り付けフランジ  ICF70 (DN 40 CF)


 
 UVS 1000 超高効率UV光源


● RF電源によりプラズマを的確に発光
● 旧来のプラズマベースUV光源より格段に高い
   効率を提供
● 電極なし、イグニッションなしのユニバーサル
   なUV光源
● 多種のガスや混合ガスで動作可能
● 光電子分光分析、原子吸光分析、質量分析

   など広範囲な応用へ 
 多種のワーキングガス  He、Ne、Ar、Kr、Xe
 光子エネルギー  8.4eV - 40.8eV (30nm - 147mm)
 光子束  5・1017photons/Sr sec
 分解能  1 meV
 コンパクトRFプラズマ電源  24V/200W
 
 


 
 EVAPORATORS

 
EV 100 単源エバポレータ 


● スタンダードエバポレータ 1500℃水冷機構付
● るつぼ 6cm3
● 材料例: Ag、Au、Pt、有機、等
● 温度測定:バネ止めKタイプサーモカップル
● 2000℃クーリングシュラウドオプション 
 ヒーター:  タンタルワイヤー(間接加熱)
 熱電対:  タイプK(標準)、タイプC(リクエスト)
 動作範囲:  500 - 1800K
 最大脱ガス温度:  1900K
 温度安定性:  ±0.1K
 マウンティングフランジ:  ICF70 (DN 40 CF)
 消費電力:  最大 300W
 作動距離:  100 - 150mm
 るつぼ材料:  酸化アルミニウム、グラファイト、窒化ホウ素、耐熱金属等
 るつぼ容量:  6cm3
 

 
EBV 100 電子ビームエバポレータ 


● Fe、Mo、Wo、Ta 等の高温溶融素材の蒸発
   のためのロッドまたはるつぼの電子ビーム
   エバポレータ
● PID制御により蒸発速度とフラックスモニターが
   可能
● 水冷によるアウトガス低減 
 温度範囲:  400 - 2600K、3600K (Moコネクタ使用時)
 電子エネルギー:  0 - 1500eV
 最大電流:  200mA
 最大電力:  300W
 フィラメント電流:  1.8 - 2.2A、最大2.5A
 作動距離:  70 - 75mm
 スポットサイズ:  0.5 - 2.3mm
 冷却装置:  ウォーターフロー > 0.5 L/min. max. 6bar
 挿入長:  最小 190mm (標準、リクエストによるカスタム)
 マウンティングフランジ:  ICF70 (DN 40 CF、OD35mm)
 

 
EV 300 四源有機エバポレータ 


● 四源エバポレータで3つまでの材料をるつぼ
   から同時に蒸発
● 水冷機構によりクロストークとアウトガスを低減
● 各るつぼにK熱電対温度測定 
 ヒーター:  タングステンワイヤー(間接加熱)
 熱電対:  タイプK
 動作範囲:  300 - 1200K
 最大脱ガス温度:  1300K
 温度安定性:  0.1K
 マウンティングフランジ:  ICF70 (DN 40 CF)
 消費電力:  最大 300W
 作動距離:  100mm
 るつぼ材料:  酸化アルミニウム、グラファイト、窒化ホウ素、耐熱金属
 るつぼ容量:  0.5m3
 

 
QMB 100/200 膜厚制御用水冷クォーツマイクロバランスセンサー  
 
● 膜厚成長モニター用6MHz
   水晶発信水冷マイクロバランス 
 QMB 100 水晶発振器
 水晶:  産業標準 6MHz、10mmの直径
 冷却:  水、0.8 l/min、3mmチューブ
 材質:  ステンレス、非磁気
 コネクターフランジ:  BNC
 マウンティングフランジ:  ICF70 (DN 40 CF)
 
 QMB 200 水晶発振器
 水晶:  産業標準 6MHz、10mmの直径
 冷却:  クーリングフィンガーを通して
 材質:  ステンレス、非磁気
 温度安定性:  0.1Kが良好
 マウンティング:  SHサンプルホルダー



 
MANIPULATORS 

 
HPM 40 ミニハイプレシジョンマニピュレータ  
 

● +/- 12.5mm XY-移動
● 600mmまでのZ-移動

 
 デザイン:  CF40、CF60、CF100 マウンティングフランジ
XY-モーションモジュールと CF40 トラベリングフランジ
 移動(full square range):  +/- 12.5mm
 精度:  +/- 5μm (手動)
 繰り返し精度:  +/- 5μm (電動)
 Z-移動速度  2mm/sec
 

 
 HPM 100/200/300 ハイプレシジョンマニピュレータ 
   HPMハイプレシジョンマニピュレータは、ICF203(DN 160CF)フランジに取り付けられ、12.5 mmと25 mmのXY移動(full square range)、最大1000 mmのZ-移動が付いています。動きは、5μmの目盛りを有する大きなバレルタイプのマイクロメータを介して可能です。 これらはステッピングモーターモジュールと簡単に交換できますが、取り外したモーターでは手動操作が可能です。
 HPM 100, +/- 12.5mm XY-マニピュレータ  
 デザイン:  ICF203(DN 160 CF)フランジ取付 XY-モーションモジュール
 移動(full square range):  +/- 12.5mm
 精度:  5μm(手動) - 0.5μm(電動)
 繰り返し精度:  5μm(手動) - 1μm(電動)
 最大速度:  2 mm/sec
 
 HPM 200, +/- 25mm XY-マニピュレータ 
 デザイン:  ICF203(DN 160 CF)フランジ取付 XY-モーションモジュール
 移動(full square range):  +/- 25mm
 精度:  5μm(手動) - 0.5μm(電動)
 繰り返し精度:  5μm(手動) - 1μm(電動)
 最大速度:  2mm/sec

 HPM 300, +/- 25mm XY-マニピュレータ, 1000mm Z-移動 
 デザイン:  ICF203(DN 160 CF)フランジ取付 XY-モーションモジュール
 移動(full square range):  +/- 25mm XY、1000mm Z
 精度:  5μm(手動) - 0.5μm(自動)
 繰り返し精度:  5μm(手動) - 1μm(自動)
 最大速度:  2mm/sec

 
HPM 100S ハイプレシジョンUHVマニピュレータ 
   

● 小型設計
● 最小 Z-距離 220㎜
● フル電動
 デザイン:  ICF152/203(DN 100/160 CF)取り付けフランジ XY-モーションモジュール
 XY-移動:  +/- 12.5mm (full square range)
 最小 Z-距離:  220mm
 最大 Z-距離:  750mm
 トラベリングフランジ:  CF63/100
 精度:  5μm(手動)、0.5μm(電動)
 繰り返し精度:  5μm(手動)、1μm(電動)
 移動速度:  2mm/sec
   

 
 HPM 100L ハイプレシジョンUHVマニピュレータ 
 
● 強化構造
● フル電動
● 光学的位置エンコーダオプション
● CF150取り付けフランジ
● CF100トラベリングフランジ 
 デザイン:  重負荷のための強化構造
 XY-移動:  ± 12.5/±25mm(full square range)
 最大Z-距離:  750mm
 トラベリングフランジ:  CF100
 精度:  5μm(手動)、0.5μm(電動)
 繰り返し精度:  5μm(手動)、1μm(電動)
 最大速度:  2mm/sec
 

 
ZM 50/75/100 Z-マニピュレータ  
 
● 50、75、または100のZ-レンジ
● CF40マウンティングとトラベリングフランジ
● 傾斜オプション利用可能
● 他のフランジサイズも使用可能

 デザイン:  CF40マウンティングフランジとトラベリングフランジ
 範囲:  50、75、または100mm
 精度:  0.5mm(手動)
 反復率:  0.5mm(手動)
 

 
DPRF 100/63  差動排気ポンプ用ロータリーフィードスルー  CF100/63
 
● イオンポンプの使用でセカンドステージ可能
● ハンドホイールまたはステッピングモーター
   ドライバー
● ベークアウト 150℃まで
● 取付台と回転フランジ・タップ
● オプティカルアンギュラエンコーダ(オプション)
● CF100 or CF63
● 電動
● 10-10mbar範囲の圧力増加 
 精度:  <0.5°(電動 <0.05°)
 繰り返し精度:  <0.5°(電動 <0.05°)
 
   DPRF 63  DPRF 100
 取り付けフランジ  CF63  CF100
 回転フランジ  CF63  CF100
 口径  68mm  101mm
 高さ  48mm  47mm
 重量  ~10kg  ~6kg
 排気フランジ  CF16  CF16

 
HPM Cryo   
 
OmniVac HPM クライオマニピュレータシリーズは低温角度分解光電子分光実験に10K以下の温度領域へのアクセスを提供します。

● 温度 7K/9K以下
● 5/6軸
● 低いヘリウム消費
● サンプルへの容易なアクセス
● 標準のエネルギー解析器のためのソフトウェア

 HPM クライオ-冷却/加熱 
 He-冷却:  <3K(5軸)、<5K(6軸)
 He-消費:  0.5 l/h (>10K)、1 l/h (最低温度)
 Cryostat:  open / closed cycle available
 間接抵抗加熱:  <400K
 
 HPM クライオ-リニアマニピュレーション  
 デザイン:  ICF203(DN 160 CF)取り付けフランジ XY移動
 移動(full square range):  ±12.5mm XY、500mm Z移動
 精度:  5μm(手動)、0.5μm(電動)
 繰り返し精度:  5μm(手動)、1μm(電動)
 移動速度:  2mm/sec

 HPM クライオ-回転マニピュレーション 
 Z-回転(R1軸):  full 360°
 回転角(R2軸):  ±90°
 傾斜角(R3軸):  -5°~ +65°
 角度分解:  0.1°

 Open cycle cryostat  Closed cycle cryostat
 最低温度: <3K  最低温度: <5.5K
 温度範囲: 3K - 400K  温度範囲: 5.5K - 400K
 急速冷却率: RT to 10K <15 min  急速冷却率: RT to 6K <4 hours
 サンプル電流測定  サンプル電流測定
 dak current : <5 - 10-14A  dark current < 5 - 10-14A
 追加サンプルステージ  追加サンプルステージ
   温度安定性: <0.2K/6 days

▶  XY ステージ: ±12.5mm、±25mm
▶  Z軸移動: 25mm、50mm、75mm、100mm、傾斜角調整オプション 
▶ XYZマニピュレータ: XY <±25mm、Z <1000mm
▶ XYZR1マニピュレータ: XY <±25mm、Z < 1000rpm、R1±180°回転角差動排気式フィードスルー
▶ XYZR1R2マニピュレータ: XY <±25mm、Z <1000rpm、R1±180°回転差動排気式フィードスルー、R2±90°方位角、360°スライダ接点オプション
▶ XYZR1R2R3マニピュレータ: XY <±25mm、Z <1000rpm、R1±180°回転差動排気式フィードスルー、R2±90°方位角、360°スライダ接点オプション、R3±10°傾斜角(オプションでクライオマニピュレータへ45°まで対応)
▶ クライオマニピュレータ: 回転機構付、3.5K
 
全ての角度用マニピュレータに電動オプション
ジョイスティックやタッチスクリーンまたはソフトウェアによるマイクロプロセッサ移動制御



 SAMPLE TRANSFER TOOLS 


RDTA 回転振り分けトランスファー  
 
● 回転機構オプション 

 
RDTTA ラックオピニオン型トランスファー  
 
● 最大移動  1000mm
● 伸縮型

 
MTR 40 磁気結合型トランスファー   
   
● 最大移動 1000mm
● CF40
 フランジ:  ICF70 (DN 40 CF)
 回転:  360°
 真空度:  < 1×10-10mbar
 ベークアウト:  200℃
 

 
MTR 16 磁気結合型トランスファーロッド 
   
● CF16
 

MWS 40 磁気結合型ウォーブルスティック  
   
● DN40ポートアライナー

 
 MTDR 40 回転導入磁気結合型トランスファーロッド 
 
● CF40 

 
Gripper  
 
● フラグスタイルサンプルホルダ用グリッパー
 

 
UHV   
 
● ラックオピニオンまたは磁気結合型
   トランスファー、 フラグスタイ/OmniVac
   /Cameca、他サンプル ホルダ用UHVトランス
   ファートンネル 
 オプション
 ▶ ファーストエントリーロードロックチャンバー
 ▶ サンプルストックチャンバー
 ▶ プレパレーションチャンバー 回転導入サンプルホルダステージ
 


 
 SAMPLE HOLDER STAGES

 
 SHR 100 Sample Holder Receiving Station 
 
 ● SHサンプルホルダ用
 ● 最大加熱電流:15A
 ● 連続方位回転
 ● 非磁性体
 ● 圧空式サンプルホルダロック
 
 最大温度:  使用するサンプルホルダによる
 ・ 900K; 銅板を介した間接加熱
 ・ 1300K; モリブデン板を介した間接加熱
 ・ 1500K; 電子ビームによる直接加熱
 ・ 2300Kまで; 電子ビーム加熱及び冷却機構
 電気接触:  ・ 熱電対(クロメル/コンスタンタンまたはクロメル/アルメル; 2接点
 ・ 抵抗加熱; 2接点
 ・ フリーピン; 2接点
 冷却:  冷却LN2(<100K)またはLHeによる冷却フィンガーとサファイア球の冷却

 
SHR 40H  Sample Holder Receving Station
 
● フラグスタイルサンプルホルダ用
● CF40取り付けフランジ
● 非磁性体

  
 加熱  間接的な抵抗加熱または電子ビーム加熱で800℃まで
 温度測定  ・サンプルステージ上の熱電対(クロメル/アルメル)
 ・直接スプリングの接触を経たサンプル接触への熱電対
電気接触  ・2点の加熱接触
 ・4点の熱電対接触
 ・バイアス接触
関連製品: フラグスタイルサンプルホルダシリーズ(熱電対の有無に係らず)、HPM100マニピュレータシリーズ
 

 
SHR 40 HC Sample Holder Receving Station  
   
● フラグスタイルサンプルホルダ用
● CF63取り付けフランジ

 加熱:  間接的な抵抗加熱または電子ビーム加熱で800℃まで
 冷却:  銅製のLN2リザーバ―上のサンプルホルダステージへ直接冷却
 温度測定:   ・ サンプル・ステージ上の熱電対(クロメル/アルメル)
 ・ 直接スプリングの接触を経たサンプル接触への熱電対
 電気接触:  ・ 2点の加熱接触
 ・ 4点の熱電対接触(クロメル/コンスタンタン or クロメル/アルメル)
 ・ バイアス接触
関連製品: flag style sample holder series with/without thermocouple HPM 100 manipulator series

 
SHR 40C Sample Holder Receiving Station  
 
● フラグスタイルサンプルホルダ用
● CF40取り付けフランジ
● 急速冷却
● 小型
● LN2連続冷却

 電気接触: 熱電対(クロメル/アルメル) 直接冷却のステージ上
熱電対 スプリングを通したサンプルへの直接接触
 冷却: 銅製のLN2容器上のサンプルへの直接冷却
90K以下
  関連製品: flag style sample holder series、CF 40 HPM Mini manipulator series、CF 40 Z-Manipulator                   

 
SHR 200 Sample Holder Receiving Station  
   
● フラグスタイルサンプルホルダ用
● LN2またはLHe連続冷却
● サンプル温度計測
● 高精度回転角
 最大温度:  使用するサンプルホルダによる
 ・ 1300K; 電子ビームによる直接加熱
 ・ 1000K; 直接加熱
 接点:  熱電対(クロメル/コンスタンタン または クロメル/アルメル; 2接点
 冷却:  LN2 または LHeによる冷却フィンガーの冷却
関連製品: HPM manipulatours、RDC700 distribution chamber
 

 
 SHR 2000 Sample Holder Receiving Staion 
 
● フラグスタイルサンプルホルダ用 
● 急速加熱2000℃
● サンプル近傍温度計測
● 負極フィラメント

 最大温度:  使用するサンプルホルダによる
 ・ 2300K; Taサンプルホルダの電子ビーム加熱
 接点:  ・ 熱電対; 2接点(W/Rh)
 ・ フィラメント; 2接点
関連製品: PS-REG 200 power supply、SH sample holder series、HPM manipulators、RDC700 distribution chamber 


 
 SAMPLE HOLDERS 

SH 100 他   
 
● 各種サンプルホルダに対応
● 水晶発振式センサに対応
● 酸素抵抗加熱ホルダ
● サーモカップル付き小型サンプルホルダ

アプリケーションに応じたサンプルホルダの
カスタマイズ 

 標準設計  
  標準サンプルサイズ:  1"(25.4mm)
  最大サンプルサイズ:  20mm(直径)
  6接点:  熱電対; 2接点、 加熱; 2接点、 フリー; 2接点
  加熱:  1300K(直接)、2300K(電子ビーム)
  冷却:  LN2(< 100K)またはLHe( < 50K)
  調整:  測定面サンプル傾斜調整

 設計変更例  
  直接加熱:  SH130、Si/SiO2急速加熱
  電子衝撃加熱:  SH120、SH125 (2300K)
  各種サンプルホルダシステムへの接続:   例:Omicron、SH170、SH175、RHK-SPM等
  光学計測用 
  加熱/冷却 
  サンプルホルダ:  SH150
  集積補償電極:  SH105
関連製品: QMB200 Quartz Microbalance (sample holder type)、FC200 Faraday Cup (adjustment device、sample holder type)

     

 


 
 UHV SYSTEM

 
 ULTRA HIGH VACUUM AND HIGH VACUUM SYSTEMS 
   
 プレパレーションチャンバー  
 
● 蒸発セル
● スパッタソース
● LEED
● 他、各フランジ

 
 FEL100 ファーストエントリーロードロック型転送ボックス 
 
● 異種UHVシステムへのサンプルホルダの運搬に 

 
TRA100 トランスポートチャンバー 
   
● ファーストエントリーロードロックに適合するよう設計
● オプションで小型のICF70(DN 40 CF)イオンポンプを
   装備可能
・ UHV条件での移送
・ 最大4つのサンプルホルダ 
・ 統合ゲートバルブ 
・ 様々なタイプのサンプルホルダシステムに適合 
 

 
 回転台型収納チャンバー  
 
● OmniVacまたはフラグスタイル
   サンプルホルダ用 

 
 OmniVac RDC UHVシステム セントラルチャンバー 
   
RDC チャンバーは、マルチチャンバーUHVシステムの中心的要素です。
準備、保管、分析を含む個別の8つのチャンバーへのアクセスを提供します。700mmの直径で始まり、そして475mmから始まる異なったチャンバー内の各サンプルホルダステーションにトランスレーション距離を提供します。オプションのテレスコピックトランスファーアームにより、最大820mmの移動距離が可能です。

 
   RDC 700  RDC 820  RDC 1100
 チャンバーサイズ  700mm  700mm  1100mm
 Z軸移動距離  475mm  820mm  
 移動機構  ラックピニオン  テレスコピック  ラックピニオン
 回転  360°  360°  360°
 ポート  ICF114 (DN 63 CF) 8ポートまで  ICF114 (DN 63 CF) 8ポートまで  ICF114 (DN 63 CF) 8~12ポート
 ポンプ  イオンゲッターポンプ  イオンゲッターポンプ  イオンゲッターポンプ
 真空度  < 2 × 10-10mbar  < 2 × 10-10mbar  < 2 × 10-10mbar
 
 UHV-チャンバー、プロダクト-デザイン:
  ▶ サンプル分析チャンバー (ミューメタル包括)
  ▶ サンプルプレパレーションチャンバー
  ▶ サンプル導入チャンバー
  ▶ サンプルトランスファーチャンバー (直線、反転)
  ▶ ファーストエントリーロードロック
  ▶ 高温/サンプル処理用加圧チャンバー
  ▶ サンプルcleaberチャンバー

 HV-チャンバー、プロダクト-デザイン:
  ▶ サンプルトランスファーチャンバー
  ▶ サンプル導入チャンバー
  ▶ 電気化学サンプルプレパレーションチャンバー


 
逆光電子分光システム 

 
 IPES 2000 システム  
 
 OmniVac IPES 2000 システムは光電子分光の実験では難しかったフェルミと真空準位から非占有電子状態の密度までを測れる高感度表面分析法です。
IPES 2000 システムは、UV光子検出のバンドパスフィルタを基にNaClコーティングのチャンネルトロンとSrF2入射ウィンドウで構成され ICF70 (DN 40 CF)フランジにマウントされます。
 電子源はUHV完全互換で ICF70 (DN 40 CF)にマウントされます。電子の熱電子放出は間接加熱のBaO陰極から放出されます。電子ビームは低エネルギーレンジ/狭いエネルギー分布/高電流ビーム、が特徴です。

 
 検出器:  半導体検出器 (NaCl)
 ウィンドウ:  SrF2 (標準)
 分解能:  0.9eV (総合)
 取付フランジ:  ICF70 (DN 40 CF)
 
 電子源システム  
 ビームエネルギー:  1eV ~ 200eV
 ビーム電流:  1nA ~ 20uA
 フィラメント:  BaO


 
 IPES 3000 システム  
    OmniVac IPES 3000 システムは光電子分光の実験では難しかったフェルミと真空準位から非占有電子状態の密度までを測れる高感度表面分析法です。
UV光子検出のバンドパスフィルタを基にアセトン/アルゴンで満たされたガイガー=ミュラーチューブとCaF2入射ウィンドウで構成されICF70 (DN 40 CF) UHVフランジにマウントされます。
 電子源はUHV完全互換で ICF70 (DN 40 CF)にマウントされ、電子の熱電子放出は間接加熱のBaO陰極から放出されます。電子ビームは低エネルギーレンジ/狭いエネルギー分布/高電圧ビーム、が特徴です。
  
 検出器:  混合ガスGM管
 ウィンドウ:  CaF2 (標準)
 分解能:  0.5eV (総合)
 取付フランジ:  ICF70 (DN 40 CF)

 電子源システム  
 ビームエネルギー:  1eV ~ 200eV
 ビーム電流:  1nA ~ 200eV
 フィラメント:  BaO